方法一.對象與絲印層的最小間距 改為4mil(原本為10mil),如圖:
方法二.在設(shè)計(jì)(D)—規(guī)則(R),找到“Manufacturing"—“Silk To Solder Mask Clearance”,取消勾選(可以不改最小間距):
方法一.對象與絲印層的最小間距 改為4mil(原本為10mil),如圖:
方法二.在設(shè)計(jì)(D)—規(guī)則(R),找到“Manufacturing"—“Silk To Solder Mask Clearance”,取消勾選(可以不改最小間距):